群创洪进扬:AI为面板产业链提升价值
作者：夸克财经这篇《关键材料光刻胶》主要学习光刻的原理、流程及认识光刻胶材料和性能，介绍光刻胶在工艺流程的各个环节和应用知识，主要针对显示芯片和显示面板生产等工作人员，帮助认识和学习光刻胶的使用范围、性能参数及正确使用方法等。希望这篇《关键材料光刻胶》能够给你的工作带来实实在在的便利和提升。
这篇《关键材料光刻胶》注重基础知识，以图片+文字形式把高深而专业的知识讲解出来，让你看得明白，学有心得。
以下为《关键材料光刻胶》目录：
一、光刻的基本原理
1、光刻的定义
2、旋转涂覆
3、喷涂
4、前烘
5、曝光
6、后烘/显影
7、坚膜/接触/接近式光刻
8、投影式光刻/激光直写光刻
9、电子束光刻/极紫外光刻
10、光刻胶的构成及其作用
11、光刻胶的选择
二、光刻胶性能参数
1、微流控胶
2、电子束胶
3、Liff-off胶
4、DUV光刻胶
5、正胶
6、负胶
7、临时键合胶
8、永久键合胶
9、特殊材料
三、正确使用光刻胶
1、接触式光刻机
2、曝光时间的计算
3、单色敏感光刻胶
4、宽谱敏感光刻胶
5、曝光剂量的确定
6、AZ光刻胶常用性能表
以下是以图片+文字形式进行展开：
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