M&R光刻机落户中国航天某国家级重点研究部门:助力国防芯片硬实力!

多客科技

作者：微信文章








M&R光刻机

助力国防芯片硬实力



科毅科技











科毅科技的光刻机，凭借其卓越的性能与精密的设计，成为了众多企业瞩目的焦点，正逐步重塑芯片制造的新格局。对于中国航天集团某国家级重点部门等高科技领域而言，科毅科技的光刻机更是不可或缺的核心装备。它能够助力企业在电源研发和生产方面取得突破，提升产品的性能和竞争力，为我国在航天航空、卫星通信等关键领域的技术发展提供强有力的芯片支持。



1

核心技术与系统构成





光刻机系统主要包括控制系统、曝光头系统、自动找平系统、光学自动对准系统、掩膜版夹持系统、晶圆真空吸附载台系统等；该设备可以实现真空接触、硬接触、软接触和间隙接触等四种模式来进行光刻工艺；另外该设备可以提供接近式（不接触）整平和对位，掩膜与芯片上的感光胶层不接触，不会引起损伤和沾污。



控制系统

控制设备整体机构运动，实现水电气相互配合和控制功能；它精确地指挥着每一个操作步骤，确保光刻机在复杂的芯片制造过程中稳定运行，实现对各项参数的精准调控，从曝光时间到工作台移动速度，无一不在其精密掌控之下。

曝光头系统

产生曝光需要的紫外光线，光源有汞灯和UV LED，汞灯光源需要排气，有爆灯风险，寿命短，800hrs~1000hrs；UV LED光源环保无污染，寿命长，10000hrs，无需排风；

自动找平系统

自动调节平台平整度，调整晶圆（基板）和掩膜版的平行度，可以实现晶圆和掩膜版的相对平行；

光学自动对准系统

实现掩膜版对准标记和晶圆对准标记的自动识别和自动对准功能，设定程序后，对准系统自动寻找对准标记并自动完成全部对准动作，全过程无需人工干预；

掩膜版夹持系统

负责稳定且精确地固定掩膜板，确保在曝光过程中掩膜板不会发生丝毫位移或抖动。其独特的设计能够提供强大的夹持力，同时又不会对掩膜板造成任何损伤，从而保证了芯片图案转移的准确性和一致性。有两种形式Top /Bottom，一般采用Bottom下置式真空吸附掩膜版，其优点可使用复合式Chuck，不需要因晶圆尺寸不同更换Chuck；

晶圆真空吸附载台系统

通过真空吸附技术，将晶圆牢固地固定在载台上，不仅能够有效防止晶圆在高速旋转和移动过程中发生滑落或偏移，还能为晶圆提供一个极为稳定的工作平台，确保曝光过程的稳定性和可靠性，同时可以X/Y轴，Theta 轴移动和旋转，实现晶圆和掩膜版的对准功能。





2

设备原理及应用





光刻机系统主要用于柔性太阳电池栅线及减反膜的光刻图形化工艺步骤。该工艺主要使用该系统产生的紫外光透过有图形Mask，将Mask上的图形1:1转印在晶圆或者基材上，实现图形的变换、转移和处理，最终把图像信息传递到芯片（主要指硅片）或介质层上的一种工艺。





光刻机用于柔性太阳电池表面涂覆的光刻胶进行曝光，经后续显影后获得所需光刻图形，采用投影曝光，在投影曝光系统中，掩膜版图形经光学系统成像在感光层上，掩膜与芯片上的感光胶层不接触，不会引起损伤和沾污，能适应具有一定翘曲程度的晶圆，满足太阳电池电极栅线生产的要求。





3

应用场景与优势





在上海蓬勃发展的半导体产业中，科毅科技的光刻机展现出了广泛的应用前景和显著优势。无论是大规模集成电路的制造，还是高性能芯片的研发生产，它都能发挥出卓越的性能。

与传统光刻机相比，其非接触式的曝光方式避免了对晶圆表面的物理损伤，大大降低了芯片制造过程中的缺陷率。同时，高精度的光学系统和先进的自动化控制技术，使得芯片的制造效率大幅提升，能够满足市场对于芯片快速交付和高质量的双重需求。

目前科毅科技落户于浙江绍兴，2024年底前会具备量产能力，后期国内的售后服务更及时，货期也有优势，性价比最高，配合度高，未来也愿意针对一些新的工艺问题进行定制化功能。

在这个科技日新月异的时代，选择科毅科技的光刻机，就是选择了领先一步的技术优势和可靠的品质保障。中国航天集团某国家级重点部门采购科毅科技光刻机，无疑是为芯片制造的未来开启了一扇通往无限可能的大门，让我们携手共进，共同见证芯片制造领域的新辉煌。







关注我们



公司官网：www.mrnanotec.com

全国服务热线：400-699-2885



4

关于科毅



科毅科技为追求本公司之曝光机(光刻机)、涂布机、光罩、平行光源等光电设备之优良品质，不断研发制造技术(微影制程/技术)，以及电子束蒸发镀膜机、等离子刻蚀机、PECVD、磁控溅射机、晶圆键合等半导体设备，并设有class 1000 等级无尘室，使所造之光电设备有更好的测试环境，以提供国内外厂商更精密良好的光电仪器。

此外更不断针对制程进行改善以提高效率与产能、降低生产成本，才能提供客户更即时、更具竞争力的产品与服务，进而达到与客户共创利润的双赢局面。





· 全/半自动亚微米光刻机 ·



· 离子注入机 ·



· 全自动双腔快速退火炉 ·



· DUV/EUV光罩除尘机 ·



· 电子束蒸发镀膜机 ·



· 等离子刻蚀机 ·



· PECVD ·



· 磁控溅射机 ·



· 晶圆键合机 ·